一、純水設(shè)備中反滲透膜元件的污染物：

純水設(shè)備在正常運行一段時間后，純水設(shè)備中反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。

污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不早期采取措施，污染將會在相對短的時間內(nèi)損壞膜元件的性能。

定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。

二、純水設(shè)備中反滲透膜元件的污染物的去除

污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實現(xiàn)，有時亦可通過改變運行條件來實現(xiàn)，作為一般的原則，當(dāng)下列情形之一發(fā)生時應(yīng)進行清洗。

1、在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的10～15%。

2、為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了10～15%。

3、產(chǎn)品水質(zhì)降低10～15%。鹽透過率增加10～15%。

4、使用壓力增加10～15%

5、RO各段間的壓差增加明顯（也許沒有儀表來監(jiān)測這一跡象）。

三、純水設(shè)備中反滲透膜元件的常見污染物及其去除方法：

1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導(dǎo)致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

注：應(yīng)確保任何清洗液的PH不要低于2.0，盃則可能會RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應(yīng)注意，最高的PH不應(yīng)高于11.0。

查使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。

2、硫酸鈣垢
清洗液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。

3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

4、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專業(yè)水處理的清洗方法才能將他們?nèi)コ嘘P(guān)的詳細(xì)方法請與水處理專業(yè)公司聯(lián)系。

5、有機沉積物
有機沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)認(rèn)可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理，請與水處理專業(yè)公司會商以確定適宜的殺菌劑。

6、清洗液
清洗反滲透膜元件時建議采用水處理專用的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學(xué)分析十分重要的，對分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應(yīng)記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。